三菱ケミカル、最先端半導体向け超高純度コロイダルシリカを事業化

三菱ケミカルは、最先端半導体製造に必要とされる「超高純度コロイダルシリカ」の事業化を決定しました。この製品は、半導体の研磨工程において重要な役割を果たします。

事業化の概要

• 製品名: 超高純度コロイダルシリカ
• 用途: 最先端半導体向け研磨剤の原料、シリコンウエハ配線層のCMP（化学的機械研磨）スラリー原料
• 生産拠点: 九州事業所・福岡地区（福岡県北九州市）に新設
• 営業運転開始予定: 2028年10月

超高純度コロイダルシリカの特長

コロイダルシリカは、シリコンウエハの研磨において、表面をナノレベル（10億分の1メートル単位）で平坦化するだけでなく、不純物の混入を抑え、スクラッチ（傷）を極力つけずに高い除去率を実現することが求められます。

三菱ケミカルが事業化する本製品には以下の特長があります。

• 超高純度原料からの製造: 超高純度な原料（テトラメトキシシラン）から一貫生産することで、不純物の含有を抑制します。
• カスタマイズ性: 同社が培ってきた高い技術力により、顧客のニーズに合わせて粒子サイズや密度などを調整（カスタマイズ）することが可能です。

市場成長と貢献

半導体市場は、生成AI（人工知能）やデータセンター向けといった最先端分野を中心に、今後さらなる成長が予測されています。 三菱ケミカルは、経営ビジョン「KAITEKI Vision 35」の中で「データ処理と通信の高度化」を注力事業領域の一つとして掲げており、世界の最先端半導体製造に不可欠な材料を提供することで、半導体の高度化を支える材料サプライチェーン（供給網）への貢献を目指します。

参考リンク

• 元記事: https://prtimes.jp/main/html/rd/p/000000129.000104418.html