ニューフレアテクノロジー、微細加工技術に関する国際会議「MNE2026」に参加し研究発表

株式会社ニューフレアテクノロジー（NFT）は、微細加工技術に関する国際会議「MNE2026」(The 52nd International Conference on Micro and Nano Engineering)に積極的に参加し、最新の研究成果を発表しました。

MNE2026への参加概要

• 開催期間: 2026年9月21日〜24日
• 開催地: スイス・インターラーケン
• 主催: iMNEs（International Micro and Nano Engineering Society）
• 会議内容: 微細加工技術、関連デバイス、応用技術を扱う国際会議。半導体分野だけでなく、ナノ加工、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems：微小電気機械システム）、微細構造形成など幅広いテーマが対象となります。

研究発表内容

NFTは、今回の会議でポスター発表を1件実施しました。発表内容は以下の通りです。

• 発表タイトル: “CD-SEM measurement impact on curvilinear mask patterns: Resist shrinkage behaviour and its spatial dependence”
  • （日本語訳: 曲線パターンマスクに対するCD-SEM測定の影響：レジスト収縮挙動とその空間依存性）
• 著者: Hikari Ogawa, Hideki Matsui, Yoshinori Kojima (NuFlare Technology, Inc.)
• 発表者: Hikari Ogawa
• 発表形式: ポスター発表（Poster S10A-T1-P-4）

この発表では、半導体製造における重要な工程であるマスクパターン形成において、寸法測定用走査電子顕微鏡（CD-SEM：Critical Dimension Scanning Electron Microscope）が曲線状のマスクパターンに与える影響について深く掘り下げた研究成果が示されました。特に、レジスト（感光性樹脂）の収縮挙動とその空間的な依存性について分析しており、次世代の半導体デバイス製造技術の精度向上に貢献するものです。

参考リンク

• 元記事: https://prtimes.jp/main/html/rd/p/000000018.000154737.html
• MNE2026公式サイト: https://mne2026.imnes.org/